Supporto Applicativo

Codice posizione: 2024-225-MI-SUPAPP Luogo di lavoro: Milano Inizio: Immediato Retribuzione indicativa: Commisurata al livello di esperienza.Competenze richieste: IT Partner Italia ricerca candidati con il seguente profilo professionale: Supporto Applicativo .
Siamo alla ricerca di un IT Release Manager che entri a far parte del nostro team.
Se hai una passione per la gestione dei processi di rilascio degli applicativi e vuoi lavorare in un ambiente stimolante, questa è l#39;opportunità che fa per te!
Requisiti e Competenze tecniche necessarie: - Almeno 2/3 anni di esperienza in ambito sistemistico IT - Microsoft PowerShell e bash - Middleware RedHat Jboss, Microsoft IIS e IBM Websphere - Conoscenza di RedHat Ansible (preferenziale) - Esperienza nella gestione di progetti IT complessi (preferenziale) - Capacità di leggere e scrivere in inglese tecnico e sostenere brevi riunioni - Laurea in Informatica o materie scientifiche (preferenziale ma non vincolante) Mansioni e Responsabilità: - Gestire il processo di rilascio degli applicativi interni attraverso vari ambienti (test, collaudo, demo, patch, produzione) - Implementare e mantenere procedure Microsoft PowerShell e/o bash - Supportare il responsabile del Release Management nel governo del processo - Collaborare con le aree di sviluppo e tecniche, gestendo riunioni di allineamento e stati di avanzamento - Documentare dettagliatamente tutte le attività e i processi a proprio carico È inoltre gradita: - Attitudine al lavoro in gruppo - Abitudine a lavorare per processi e rispetto delle procedure operative - Disponibilità a lavorare fuori orario standard (serali o fine settimana) Si prega di inviare il CV dettagliato in formato europeo all#39;indirizzo indicando il codice posizione 2024-225-MI-SUPAPP ed autorizzando il trattamento dei dati personali ai sensi del D. Lgs.
196/2003.
L#39;offerta è rivolta a candidati di entrambi i sessi nel rispetto delle norme sulle parità di trattamento in materia di occupazione e di condizioni di lavoro (D.Lgs.
216/03).